等静压硬质合金模具，合金粉等静压成型模具，等静压模具定制专家江苏海得实

等静压硬质合金模具，合金粉等静压成型模具，等静压模具定制专家江苏海得实，等静压包套，稀土氧化物巨磁电阻材料应用领域十分广泛，而且具有金属多层膜巨磁电阻材料不可比拟的优点。1999年稀土氧化物巨磁电阻材料器件市场达30亿美元，相应靶材市场达3亿美元。随着全球“卡式消费”时代到来，稀土氧化物巨磁电阻靶材市场将急剧增大。目前，在我国大力开发稀土锰氧化巨磁电阻陶瓷靶材将促进稀土材料向功能薄膜应用领域发展，带动信息产业的发展，具有巨大的经济效益和社会效益。

溅射陶瓷靶材制作面临主要技术问题

1、如何提高溅射靶材利用率

在平面磁控溅射过程中，由丁正交电磁场对溅射离子的作用关系，溅射靶在溅射过程中将产生不均匀冲蚀（Ersion）现象，从而造成溅射靶材的利用率普遍低下，只有30%左右。近年来，设备改善后靶材的利用率提高到50%左右。怎样提高溅射靶材的利用率是今后研究设计靶材、溅射设备的主要发展方向之一。

2、解决溅射过程中的微粒飞溅

溅射镀膜过程中，致密度较小的溅射靶受轰击时，由于靶材内部孔隙内存在的气体突然释放，造成大尺寸的靶材或微粒飞溅，这些微粒的出现会降低薄膜品质。一般，粉末冶金工艺制备的溅射靶材大都存在致密度低的问题，容易造成微粒飞溅，对粉未冶金溅射靶材则应提高原料粉木纯度，并采用等离子烧结、微波烧结等快速致密化技术，以降低靶材孔隙率。

3、解决靶材的结晶取向

靶材溅射时，靶材中的原子最容易沿着密排面方向择优溅射出来。材料的结晶方向对溅射速率和溅射膜层的厚度均匀性影响较大。因此，获得一定结晶取向的靶材结构对解决上述问题至关重要，但要使靶材组织获得一定取向的结晶结构，存在较大难度。只有根据靶材的组织结构特点、采用不同的成型方法，热处理工艺进行控制。

靶材发展趋势

小靶材，大作用，作为芯片灵魂般的存在，靶材在我国的国产化率竟然不足10%，在靶材产业链中我国主要集中在中低端领域，靶材制造环节和靶材镀膜环节，技术壁垒相对较低一些，国内靶材企业大多集中在这一领域。随着国内半导体集成电路、记录介质、平面显示及工作表面涂层等高技术产业的发展，为中国靶材制造业的发展提供机遇和挑战，如何解决以上问题，为国内外用户提供高质量的溅射靶材，是摆在国内材料工作者面前的现实问题。

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